真空粉体干式镀膜技术 - 常州艾斯达科技有限公司

首页 » 产品中心 » 真空粉体干式镀膜技术

粉体溅射装置

近年来，随着锂离子电池等二次电池和燃料电池在性能提升、安全性强化及成本降低方面的积极发展，通过对作为二次电池原材料的微粒子进行薄膜沉积以提升性能的方法逐渐受到关注。为了在多种材料上实现高纯度的薄膜沉积，干法工艺如溅射等被认为更具优势，并广泛应用于平板基材的薄膜沉积。
然而，要在微粒子表面实现均匀的薄膜沉积，必须对微粒子进行分散，但干法技术在微粒子分散方面存在较大技术难题。
因此，传统上难以将干法工艺在材料多样性、高纯度薄膜以及无废液排放等方面的优势应用于微粒子薄膜沉积。

本设备采用独特的搅拌机构，实现了干法工艺条件下微粒子的良好分散，成功实现了均匀且兼具干法优势的微粒子表面薄膜沉积。
迄今为止，已受到汽车制造商、电池材料行业以及电子行业多家大型企业的关注，并拥有大量通过样品测试进行薄膜沉积演示的成功案例。
薄膜沉积效果也获得了高度评价，引进本设备将推动二次电池相关应用如智能住宅、燃料电池汽车等节能产品的普及，这不仅有助于降低环境负荷，也有望通过行业发展促进就业扩大。

未来，我们将继续推进纳米粒子薄膜沉积及粉体膜厚控制技术的确立，力求支持更广泛的粉体材料应用，并方便客户对沉积后的微粒子进行评估。